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光电探测单元、光电探测结构和光电探测器及其制备方法[发明专利]

来源：年旅网

专利内容由知识产权出版社提供

专利名称：光电探测单元、光电探测结构和光电探测器及其制

备方法

专利类型：发明专利发明人：臧凯,李爽,张超申请号：CN201911141576.9申请日：20191120公开号：CN112825339A公开日：20210521

摘要：本申请涉及光电探测单元、光电探测结构及其制备方法、光电探测器及其制备方法，其中，光电探测单元包括第一基底；第一结构，具有第一掺杂类型，形成于第一基底的正面上；第二结构，具有第二掺杂类型，形成于第一结构内，第一结构具有包围第二结构底面和侧面的底壁和侧壁；第一光处理层，具有凹凸结构，形成于第二结构的上表面；重掺杂区，具有第一掺杂类型，形成于侧壁内，重掺杂区的掺杂浓度大于侧壁的掺杂浓度；第一电极，与重掺杂区电连接；第二电极，与第二结构电连接。在本申请中，第一结构和第二结构形成光探测层，在光探测层上形成第一光处理层，通过第一光处理层对入射光线进行多次反射以增加光程，提高光探测层的光吸收效率。

申请人：深圳市灵明光子科技有限公司

地址：518051 广东省深圳市南山区西丽街道高新技术产业园北区清华信息港科研楼4层410号

国籍：CN

代理机构：广州华进联合专利商标代理有限公司

代理人：汪洁丽

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