一种干法刻蚀设备[发明专利]

来源：年旅网

专利内容由知识产权出版社提供

专利名称：一种干法刻蚀设备专利类型：发明专利发明人：肖文欢

申请号：CN201710853157.2申请日：20170920公开号：CN107633991A公开日：20180126

摘要：本发明提供一种干法刻蚀设备，包括：由上腔体和下腔体密封形成的制程腔，用于执行电感耦合电浆模式下干法刻蚀工艺所需的各种制程反应；上腔体内设置有多个骨架和用于支撑所述骨架的悬挂柱，骨架之间形成空格，用于放置非导电性的诱电体；上腔体内还设置有天线线圈，用于形成交变电流，由交变电流诱导出交变磁场或电场并传递到所述下腔体，形成电感耦合模式下的高浓度电浆；设置在上腔体和下腔体之间并与诱电体紧密贴合的天板，述天板为镀有阳极氧化膜的铝阳极件。本发明将与电浆接触的天板设计为表面镀有阳极氧化膜的铝阳极件，改善了天板的机械性能和导热性能，使天板可实现高温控温，改善因生成物附着导致的刻蚀残留问题，延长生产维护周期。

申请人：武汉华星光电半导体显示技术有限公司

地址：430000 湖北省武汉市东湖新技术开发区高新大道666号光谷生物创新园C5栋305室

国籍：CN

代理机构：深圳汇智容达专利商标事务所(普通合伙)

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