(12)发明专利申请
(21)申请号 CN2018108063.0 (22)申请日 2018.07.20
(71)申请人 上海华力微电子有限公司
地址 201203 上海市浦东新区张江高科技园区高斯路568号
(10)申请公布号 CN1087259A
(43)申请公布日 2018.12.11
(72)发明人 陆超
(74)专利代理机构 上海申新律师事务所
代理人 俞涤炯
(51)Int.CI
权利要求说明书 说明书 幅图
()发明名称
一种电镀制程中的洗边流程
(57)摘要
本发明提供一种电镀制程中的洗边流程,
属于半导造技术领域,包括提供一经过电镀金属后的预处理晶圆,所述预处理晶圆包括晶圆及经过电镀金属后形成于所述晶圆上表面的金属膜,所述晶圆边缘具有缺口,将所述预处理晶圆放入洗边模块中按照预设旋转方向进行洗边处理以去除所述缺口处的金属膜,所述预设旋转方向包括顺时针旋转和逆时针旋转。本发明的有益效果:通过优化电镀机台中的洗边模块的洗边流
程,在顺时针旋转的基础上添加逆时针旋转,解决窄洗边状况下,晶圆缺口附近金属膜去除不充分的问题,防止在后续制程中产生缺陷。
法律状态
法律状态公告日
2018-12-11 2018-12-11 2019-01-04
法律状态信息
公开 公开
实质审查的生效
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说明书
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