专利名称:一种PMMA膜制备方法及PMMA膜电阻式柔性压
力传感器
专利类型:发明专利
发明人:魏雄邦,肖伦,全勇,陈志,庞韩英,吴天昊申请号:CN201610044359.8申请日:20160122公开号:CN1056978A公开日:20160622
摘要:该发明公开了一种PMMA膜制备方法及PMMA膜电阻式柔性压力传感器,涉及柔性压力传感器结构和制备,具体涉及PMMA薄膜制备工艺以及使用PMMA薄膜的电阻式柔性压力传感器的结构。该传感器包括:上电极、上电极衬底、下电极、下电极衬底、封装结构,上电极位于上电极衬底下表面,下电极位于下电极衬底的上表面,上电极与下电极之间留有空腔,所述上、下电极包括:导电薄膜、设置于导电薄膜上的银电极,与银电极相连的铜导线,下电极衬底为PDMS薄膜,其特征在于上电极衬底为PMMA薄膜。本发明克服了PDMS薄膜的自身容易塌陷粘连的缺点,提高使用PDMS制备的对电极式压力传感器稳定性,从而拓宽PDMS对电极式柔性压力传感器的使用领域,并且极大的降低了压力传感器的成本。
申请人:电子科技大学
地址:611731 四川省成都市高新区(西区)西源大道2006号
国籍:CN
代理机构:电子科技大学专利中心
代理人:张杨
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