专利名称：流体喷射结构专利类型：发明专利
发明人：B·D·钟,G·P·库克,M·H·海斯,A·L·戈泽尔,C·E·多明
格,V·J·马蒂,A·M·富勒,S·沙芬斯
申请号：CN201480076794.8申请日：20140630公开号：CN106068186A公开日：20161102
摘要：流体喷射结构可以包括热敏电阻器、衬底、位于衬底上的层，其中所述层可以包括接近电阻器的具有减小的场氧化物的区。
申请人：惠普发展公司,有限责任合伙企业
地址：美国德克萨斯
国籍：US
代理机构：永新专利商标代理有限公司
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