专利名称：磁控溅射室和包含其的真空镀膜机专利类型：实用新型专利发明人：王叔晖,刘竹杨申请号：CN201320025737.X申请日：20130117公开号：CN203096161U公开日：20130731
摘要：本实用新型提供一种磁控溅射室和包含其的真空镀膜机，其包括有一具有安装孔的真空室和一具有靶座的磁控溅射靶源，该磁控溅射室包括一绝缘件、一O型圈、一绝缘板和一锁紧螺母，该靶座通过该绝缘件和该O型圈抵迫于该安装孔的内壁上，并通过位于该安装孔的外壁上的该绝缘板和该锁紧螺母固封。本实用新型的磁控溅射室具有密封绝缘性高和密封结构简单的优点。
申请人：上海法德机械设备有限公司
地址：201616 上海市松江区小昆山镇崇南南路2号
国籍：CN
代理机构：上海智信专利代理有限公司
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