磁控溅射-多弧多功能真空镀膜设备[实用新型专利]

[12]实用新型专利说明书

[21]ZL 专利号

95224085.8

[11]授权公告号CN 22216Y

[51]Int.CI6

C23C 14/24

[45]授权公告日1996年6月12日[22]申请日95.10.23

[73]专利权人北京美克亚通用技术有限责任公司

地址100083北京市德外北沙滩1号[72]设计人程广河

[21]申请号95224085.8

[74]专利代理机构机械工业部知识产权事务中心

代理人陈小雯 梁晓文

权利要求书 1 页 说明书 3 页 附图 1 页

[]实用新型名称

磁控溅射-多弧多功能真空镀膜设备

[57]摘要

磁控溅射-多弧多功能真空镀膜设备，在真空镀膜室壁的密封法兰盘上，装有数个、不同种类金属靶材的平面磁控溅射靶；在镀膜室底面，装有加热器。其优点在于：可以制造大型的同类设备，拓宽了磁控溅射-多弧多功能真空镀膜设备的应用范围；增加了镀磁控溅射多层单质膜和合金膜的功能；靶材加工容易、成本低、装卸方便；靶材局部溅射残蚀后，重新加工损耗小；加工少量镀件，只要启动相应位置的磁控溅射靶。

95224085.8

权 利 要 求 书

第1/1页

1.磁控溅射-多弧多功能真空镀膜设备，包括真空镀膜室(13)、连接真空抽气机的法兰盘(1)、充气孔(12)、自转和公转机构(4)、被镀工件挂架(8)、多弧离化蒸发源(2)等，其特征在于：在真空镀膜室壁(7)的密封法兰盘上，装有至少一个平面磁控溅射靶(9)，在真空镀膜室(13)内，装有专用的加热器。

2.根据权利要求1所述的磁控溅射-多弧多功能真空镀膜设备，其特征在于：该设备的平面磁控溅射靶(9)为圆形、矩形或多边形。

3.根据权利要求2所述的磁控溅射-多弧多功能真空镀膜设备，其特征在于：沿该设备真空镀膜室(13)的轴线，在镀膜室(13)的底面，装有加热器(3)。

4.根据权利要求2所述的磁控溅射-多弧多功能真空镀膜设备，其特征在于：在该设备真空镀膜室底面，靠近内壁的同一圆周上，装有至少二个加热器。

5.根据权利要求3或4所述的磁控溅射-多弧多功能真空镀膜设备，其特征在于：在该设备真空镀膜室壁(7)的密封法兰盘上，装有不同种类金属靶材的平面磁控溅射靶(9)。

6.根据权利要求5所述的磁控溅射-多弧多功能真空镀膜设备，其特征在于：在该设备真空镀膜室壁(7)、底(10)的内侧，装有内衬(11)，内衬(11)由片状体拼成。

2

95224085.8

说 明 书

第1/3页

磁控溅射-多弧多功能真空镀膜设备

本实用新型属于在真空条件下，对可镀覆的不同材料进行多弧离子镀膜、磁控溅射镀膜、磁控溅射和多弧复合镀膜的设备及技术。它可以在工具、模具、刀具表面镀超硬薄膜提高其性能，也可以在各种建筑五金、钟表首饰、工艺美术、钢木家具、卫生洁具、制笔、餐具等物品上镀制仿金、黄金、白银等单质或合金膜。

现有技术，如航空航天工业部第五研究院五一一研究所的多弧-磁控溅射多功能镀膜设备ZL90226142.8，是把

原多弧镀膜设备，真空镀膜室轴线上的固定加热器，改为在镀膜室轴线上或装加热器、或装一根同轴磁控溅射靶。该设备在磁控溅射镀膜时，一次只能镀制一种单质膜；同轴磁控溅射靶的靶材加工困难、成本高；靶材轴向不宜过长，了该设备在大型镀件方面的使用；使用中靶材局部溅射残蚀后，需要重新加工整个靶材，造成浪费；只加工几个镀件时，也要启动整个磁控溅射靶；靶材装卸不便；在镀膜室中没有固定、专用的加热器。 本实用新型的目的，是要提供一种成本低、损耗小，镀件质量高，使用方便、用途广泛的磁控溅射-多弧多功能真空镀膜设备。

磁控溅射-多弧多功能真空镀膜设备，包括真空镀膜室、连接真空描气机的法兰盘、充气孔、自转和公转机构、被镀工件挂架、多弧离化蒸发源等，本实用新型的目的是这样实现的：在镀膜室壁的密封法兰盘上，装有至少一个平面磁控溅射靶，在镀膜室内，装有专用的加热器。

磁控溅射-多弧多功能真空镀膜设备的平面磁控溅射靶，为

3

95224085.8说 明 书 第2/3页

圆形、矩形或多边形。

磁控溅射-多弧多功能真空镀膜设备，沿真空镀膜室轴线，在镀膜室的底面，装有加热器；或者在真空镀膜室底面，靠近内壁的同一圆周上，装有至少二个加热器。

磁控溅射-多弧多功能真空镀膜设备的真空镀膜室壁的密封法兰盘上，装有不同种类金属靶材的平面磁控溅射靶。 本实用新型的优点：由于在真空镀膜室壁上，装有平面磁控溅射靶，镀膜室的大小，不受加工同轴磁控溅射靶的，可以制造大型的同类设备，拓宽了磁控溅射-多弧多功能真空镀膜设备的使用范围；平面磁控溅射靶加工容易、成本低；靶材局部溅射残蚀后，重新加工时，损耗小；加工少量镀件时，可以根据需要启动相应空间位置的磁控溅射靶，降低了镀膜费用；磁控溅射靶装卸方便；由于在镀膜室内，装有专用的加热器，提高了镀件的质量。

下面结合附图和具体实施方式对本实用新型作进一步的说明。 图1是磁控溅射-多弧多功能真空镀膜设备的示意图 被镀工件装入真空镀膜室13，密封后，连接于法兰盘1的真空描气机组，将镀膜室13内描成高真空；同时，根据工艺需要决定是否启动加热器3，对被镀工件进行预加热；充气孔12向镀膜室13内输入所需气体；传动轮5带动装于顶6上的自转和公转传动机构4，通过挂架8带动被镀工件，不断自转、公转；启动轰偏电源、多弧离化蒸发源电源和、或平面磁控溅射电源，从多弧离化蒸发源2和、或平面磁控溅射靶9上，不断蒸发出金属离子和、或溅射出金属原子，使其不断沉积在被镀工件上，实现镀膜。

真空镀膜室壁7、底10的内侧装有内衬11，镀膜时为镀

4

95224085.8说 明 书 第3/3页

膜室保温；内衬11由片状体拼成，拆卸清洗方便。

平面磁控溅射靶在真空镀膜室壁上的布置方案，要由磁控溅射镀膜的具体要求决定。

在真空镀膜室壁上装有不同种类金属靶材的平面磁控溅射靶时，磁控溅射-多弧多功能真空镀膜设备，比原多弧-磁控溅射多功能镀膜设备ZL90226142.8，增加了镀磁控溅射多层单质膜和合金膜的功能。

本实用新型的具体结构和参数为通用的或该领域技术人员能自行实施的技术，在此不作具体描述。

5

95224085.8

说 明 书 附 图

第1/1页

图1

6